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      真空鍍膜設備

      科技創新為動力 專業服務為目標
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      常規配置
      ? 真空泵系統
      低真空泵:旋片式機械泵(蒸壓機械泵:930m3 h-1)
      高真空泵:擴散泵(選擇:低溫泵或滑輪分子泵)

      ? 真空閥系統
      型號:3/8”,2”,4”,22“

      ? 真空室加熱系統
      高溫度:0到400℃
      型號:滷素燈(選擇:微型加熱器)
      基片型號:球面型或行星型
      轉速:0到30轉速/分
      軟起,軟停,可調速瀘

      ? 電子控制系統
      型號:計算機控制面板
      可修改和改變任何需要的控制
      全程控制鍍膜以達到產品所需的要求
      提供所需要的技術信息

      ? 真空計系統
      高真空感應器:2
      低真空感應器:1
      選擇配置
      ? 薄膜沉積控制系統
      沉積控制:IC-5 (INFICON)
      MDC360 (MAXTEK)等等
      石英晶髓感應器:1,2,6頭

      ? 光控離子源
      無柵型:直流型
      燈絲型:直流型,頻射型

      ? 電子束源
      容量:15cc,25cc,40cc等等
      偏轉角度:180度或270度
      坩鍋:4,6,8倜等等

      ? 深冷系統
      除霜室
      擴散泵

      ? 水冷卻系統
      水或氣冷卻器
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